Cambridge NanoTech的重大里程碑：交付第三百套ALD设备

　　Marketwire 2012年3月7日美国马萨诸塞州剑桥市消息/明通新闻专线/--

　　原子层淀积 (或原子层沉积) (ALD)科技与设备领域的全球领先企业Cambridge NanoTech完成了向中国山西煤炭化学研究所(ICC)交付第300套ALD设备的工作。这是Cambridge NanoTech的一个重大里程碑，对于需要对氧化物、氮化物、硫化物和金属等不同物质的成膜进行数字化控制的研究人员和生产企业来说，Cambridge NanoTech的ALD设备已经成为一个重要的战略解决方案。

　　山西煤炭化学研究所隶属中国科学院(CAS)，是一家高科技研发机构。Savannah设备将成为供山西煤炭化学研究所各研发部门使用的首套ALD设备。山西煤炭化学研究所煤转化重点实验室教授秦勇博士(音译)表示：“我们之所以选择Savannah ALD设备，是因为我们发现该设备可以非常容易地获得精确一致的薄膜，特别是在试验新型前驱物质时更是如此。我们计划将Savannah设备应用于工业催化应用中的纳米催化剂原子层淀积。我们预计Savannah设备将成为我们实验室的主力设备，能让我们在极少维护甚至免维护的情况下进行热处理流程。”山西煤炭化学研究所将进行二氧化钛(TiO(2))、二氧化锡(SnO(2))、氧化矾(VO(x))、铂(Pt)和钌(Ru)等不同物质的加工处理。

　　Cambridge NanoTech于九年前推出了首套Savannah ALD设备，之后，又把这种全球使用最广泛的ALD设备扩展成了三种型号：S100型、S200型和S300型。作为ALD行业的领先企业，Cambridge NanoTech把其产品线拓展至包括面向研发领域的Fiji系列等离子体增强ALD设备和满足大批量大面积生产需要的Phoenix系列和Tahiti系列设备。

　　Cambridge NanoTech首席执行官、创始人Jill Becker表示：“这项技术的广泛采用、Savannah系列设备的普及以及ALD应用的增长有助于加快日常产品的转化。世界各地的采用以及后来的数千篇研究论文表明，Savannah ALD设备已经成为热ALD设备的黄金标准。我们的团队对此次设备交付感到无比自豪，因为这充分证明了我们系统的实力、ALD的多用性以及市场对这项技术的需求。”

　　除了交付第300套设备的里程碑外，Cambridge NanoTech本月初还举办了第一场系列网络研讨会，题为《什么是原子层淀积和你为什么应当关注?》。第一场系列研讨会重点围绕ALD基础知识，全球32个超过275人参与了此次研讨会。Becker表示：“现代科技大大改变了我们分享信息的方式。我们非常荣幸能够站在社交技术的最前沿，传授原子层淀积知识，为人们提供材料科学解决方案所需要的工具。”Cambridge NanoTech今后将要举办的网络研讨会包括等离子ALD的优势和自组装单分子层的生长等。欲了解Cambridge NanoTech即将举行的网络研讨会的更多信息，请访问： www.cambridgenanotech.com/seminars 。

　　关于山西煤炭化学研究所

　　山西煤炭化学研究所(ICC)是中国科学院(CAS)下属的高科技研究开发机构之一，主要从事能源环境、先进材料和绿色化工三大领域的基础与应用研发。

　　关于Cambridge NanoTech

　　Cambridge NanoTech的原子层淀积(ALD)系统被广泛应用于科研和工业应用中的超薄膜淀积。Cambridge NanoTech的面向制造业的ALD系统被用于半导体、平板显示器和固态照明的生产。Cambridge NanoTech的面向研究的系统被世界一流科学家应用于研究ALD薄膜的优异特性，包括电气、抗菌、防紫外线和增透等特性。欲了解有关Cambridge NanoTech的更多详情，请访问：www.cambridgenanotech.com 。

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